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Semicon SMT LED LCD PCB自有產(chǎn)品
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美國MARCH Plasma AP1000/AP600 等離子清洗機

 詳情說明

MARCH AP-1000等離子系統(tǒng)

特點和優(yōu)勢

采用PLC控制，觸摸屏式人機界面，實時工藝監(jiān)控
靈活的電極組合適用于不同類型的產(chǎn)品載具實現(xiàn)Direct 或DownStream 模式等離子工藝
具有自動阻抗匹配的13.56MHz射頻電源保證工藝的重復(fù)性
專有軟件控制系統(tǒng)可記錄工藝和生產(chǎn)數(shù)據(jù)，便于統(tǒng)計和工藝控制

DEK NeoHorizon iX

最苛刻生產(chǎn)環(huán)境下均勻的等離子體處理技術(shù)

諾信MARCH的AP-1000系統(tǒng)專為滿足高性能制造環(huán)境下24小時操作嚴格要求而設(shè)計，可實現(xiàn)均勻等離子體處理，安全穩(wěn)定且操作簡便。

AP-1000型采用緊湊式設(shè)計，占地面積小，真空泵、腔體和電氣控制件以及13.56MHZ射頻電源都整合在設(shè)備內(nèi)部，設(shè)備前部可方便完成操作維護，帶有腳輪的真空泵裝置方便檢修。

等離子腔采用美規(guī)11標號的不銹鋼和鋁支架制造，堅久耐用。腔內(nèi)可調(diào)整的電極組根據(jù)不同的產(chǎn)品載具，包括料盒、托盤、晶圓、晶舟等可靈活組合配置。

提高了生產(chǎn)率，滿足大容量生產(chǎn)力要求

搭配HTP(高產(chǎn)能)電極的AP-1000等離子系統(tǒng)是綜合了March特有的電極設(shè)計和AP-1000的高可靠性及其優(yōu)良的工藝性。AP-1000 HTP充分利用了射頻等離子產(chǎn)生的活性離子，不僅縮短工藝時間而且提高處理均勻性。

AP-1000HTP配備4路氣體流量控制器，因工藝需求可選用不同的氣體包括氬氣、氫氣和氦氣等。

開槽式料盒可豎放于工藝腔內(nèi)，通常每個料盒最少可放置20條引線框，根據(jù)料盒尺寸大小，一爐可最多放置12個料盒。

MARCH AP-1000等離子
MARCH AP-1000等離子系統(tǒng)規(guī)格表


項 目 內(nèi) 容
外 殼
尺 寸		 占地面積W(寬) x D 長) x H 高) 0.68米寬 x 1.127米長 x 1.89米高
凈 重 485 公斤 (1069磅)
設(shè)備間隙 右邊、左邊-至少153 毫米，前面- 至少680毫米，后面-至少483毫米
處 理
腔 體		 最大容量 127升
多種電極配置 電源-接地，接地-電源，電源-電源
電極插槽數(shù) 14
電極間距 25.4 600W)
50.8 毫米 (1000W)
電 極 電源電極面積 349毫米寬x 425毫米長
多孔接地電極面積 384毫米寬x 425毫米長
懸浮電極面積 349毫米寬x 425毫米長
射 頻
功 率		 標配電源 600 W
選配電源 1000 W
頻率 13.56 MHZ
氣 體
控 制		 流量計 10、25、50、100、250、500、1000、2000或5000標準毫升/分鐘
MFC最多可配置數(shù) 4
控制和
接 口		 軟件控制 PLC控制，配有觸摸屏界面
遠程接口 PlasmaLINK、ProcessLINK、SECS/GEM接口
真空泵 標配油泵 1500升/分鐘，配有氧油除霧器
選配油泵 1500升/分鐘，配有防銹油除霧器
選配干泵 1784升/分鐘
干泵凈化氮氣用量 14升/分鐘
干泵冷卻水用量 5升/分鐘
設(shè) 施 電源 220伏，25安，50/60 赫茲，3相， 8 AWG，4線；380伏，25安，50/60 赫茲，3相， 8 AWG，5線
工藝氣體管徑及接口 外徑6.35 毫米(0.25英寸)Swagelok管
工藝氣體純度 實驗室或電子等級
工藝氣體壓力 最小0.069兆帕至最大0.103兆帕，可調(diào)節(jié)
凈化氣體管徑及接口 外徑6.35 毫米(0.25 英寸) Swagelok管
凈化氣體純度 實驗室或電子等級N2/CDA
凈化氣體壓力 最小0.2兆帕至最大0.69兆帕，可調(diào)節(jié)
氣動閥接口及管徑 外徑6.35 毫米(0.25 英寸)Swagelok管
壓縮空氣純度 CDA、無油、露點溫度 ≤7℃ ，粒徑＜5微米
壓縮空氣壓力 最小0.345兆帕至最大0.689兆帕，可調(diào)節(jié)
排放 外徑38 毫米(1.5英寸)管道法蘭
合規(guī)性 半導(dǎo)體 通過SEMI S2/S8 (環(huán)境、健康和安全/人體工學)認證
國際 通過CE認證
輔 助
設(shè) 備		 氣體發(fā)生器 氮氣、氫氣(需要其他不可選硬件)
設(shè)施 冷卻器、洗滌器